El depósito de capas atómicas (ALD) es una técnica utilizada para depositar capas de material en recubrimientos con objeto de mejorar una propiedad física determinada o las propiedades mecánicas de un material. Esta tecnología es muy versátil y útil pero, sin embargo, se ha observado que el diseño de cámaras para procesos ALD, en general orientados a sustratos 2D, por ejemplo, obleas de silicio de las empleadas en microelectrónica, no permite el depósito sobre sustratos de formas complejas que puedan tener grandes tamaños o formas no geométricas (por ejemplo, implantes, fibras y piezas metalúrgicas). Los inventores en nanoGUNE han desarrollado una cámara que permite una deposición sobre superficies irregulares y la solicitud de patente ha sido recientemente concedida (3 de Marzo 2020 concedida por la Oficina Española de Patentes y Marcas (OEPM), solicitud de patente 201990026). Daniel Simó, CEO de Ctech Nano, empresa spin-off de nanoGUNE y licenciataria de la solicitud, asegura que "la protección de la tecnología es clave para un desarrollo robusto y seguro del modelo de negocio de la empresa".
Esta concesión enriquece la cartera de patentes de nanoGUNE (con enlace a https://www.nanogune.eu/ip-portfolio), con 5 familias de patentes concedidas y 19 familias de solicitudes en curso.
